ORTEC 在 alpha 譜儀上采用超低本底和 PIPS 工藝（表面鈍化、離子注入、可擦洗）硅探測器，同時真空艙室也為（超）低本底材料。面積上提供 300、450、490、600、900 和 1200mm² 的選擇（對-MEGA 探測器直徑可選至最大 3000mm²），有效耗盡層 100μ  m。

關于Ultra-AS 探測器的詳細信息，請參考本手冊 35、36 頁。

MEGA/DUO/Ensemble：

Alpha-DUO 是一個完整的雙路 alpha 譜儀，用于傳統(tǒng)制樣方法下 alpha 樣品的分析；Alpha-MEGA 是一個完整的單路 alpha 譜儀，其形制大小等同于 Alpha-DUO，由于擴大了測量艙室并可采用最大3000mm2 的探測器，它的設計是用于直接測量最大 106mm 直徑的濾紙濾膜樣品。

Ensemble 是一個標準設計、可最多容納四個或-DUO、或-MEGA、或其組合體的機箱。

-DUO 和-MEGA 既可以獨立工作，也可以嵌入 Ensemble 主機中形成多路的 alpha 譜儀。

結構特性與性能指標：

探測器的面積可選 300 /450/490/600/900/1200 mm²；樣品直徑可從 13mm 至 51mm。探測器與被測樣品之間有 10 檔距離可選，相鄰兩檔之間的距離差為 4mm, 最大距離可達 44mm。

wan全數(shù)字化且每路wan全獨立的 MCA，一切參數(shù)由計算機控制。（Alpha Aria 由外面板控制真空） 真空計：范圍 10mTorr 到 20Torr。

探測器偏壓：范圍 0±100V, 大小和正負極性可調節(jié)。漏電流檢測器：范圍 0 到 10,000nA，顯示分辨率 3nA。

脈沖產生器；范圍 0 到 10Mev，穩(wěn)定性<50ppm/oC ，脈沖的幅度可調。

數(shù)字化 MCA：通過軟件可設置系統(tǒng)轉換增益(道數(shù))為 256、512、1024、 2048 或者 4096 道，細調增益為 0.25 到 1；增益穩(wěn)定性: ≤150ppm/oC；每個事件的轉換時間(死時間)：<2 µs 。

數(shù)字化穩(wěn)譜、ADC 的零點(ZERO)和下閾(LLD)均由計算機調節(jié)設置。譜儀的探測器偏壓、漏電流均可在軟件相關界面上以數(shù)字和圖形顯示出來。

輸入電源：120/240 V ac, 50/60 Hz 輸入功率 50W。

通訊：USB2.0 接口。每一個 Alpha Ensemble 最終提供一條電纜給PC。應用軟件：MAESTRO-32 或 AlphaVision

Ensemble-8 尺寸：48.5cm W× 49.2cm D × 27.2cm H；凈重：26.6 kg； 工作條件: 溫度 0oC 到 50oC, 相對濕度 ≤ 95%。

分辨率與本底：基于使用 450mm² ULTRA-AS 探測器和高質量的 ²⁴¹Am 點源，能量分辨率(FWHM):≤20KeV (探測器到源的距離等于探測器的直徑)，探測器效率:  ≥25% (探測器到源的距離小于 10mm)，本底：在 3MeV 以上, 每小時計數(shù)≤1。

另幾款探測器的分辨率（@5.486MeV）：

ENUS-490，FWHM): ≤ 22KeV； ENUS-600，FWHM): ≤ 24KeV； ENUS-900，FWHM): ≤ 29KeV； ENUS-1200，FWHM): ≤ 37KeV

Ensemble/DUO/MEGA 都已植入反沖抑制功能，只需配置反沖抑制   盤 RCAP-ST 即可實現(xiàn)該功能，從而盡可能避免探測器與艙室被 alpha 粒子沾污。